近日，数理学院程王平博士团队在《Crystal Growth & Design》发表论文“Solution-Driven Epitaxial Structure Formation of the Delafossite CuCrO2 Thin Film”，程王平博士为该文第一作者，数理学院何媛娣博士为该文通讯作者。该期刊影响因子IF=3.4，JCR一区期刊，中科院一区期刊。
该论文报道了一种高质量外延CuCrO2薄膜的溶液制备方法。通过改变前驱体的溶剂比例，利用化学溶液沉积法制备出高质量CuCrO2薄膜。优化比例后的外延CuCrO2薄膜的表面形貌优于其他物理法制备的薄膜，同时具有更小的方块电阻以及较高的光学透过率。研究结果为利用低成本化学溶液沉积法进行高质量单晶外延薄膜的制备提供了切实可行的技术路径。（撰稿：程王平；审核：张海）
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